de que 2 maneras se puede dopar un semiconductor
Respuestas a la pregunta
Respuesta:
Durante el crecimiento y difusión
Explicación:
Durante el crecimiento:
Motivación : Se utiliza para dopar regiones extensas de silicio de forma homogénea (obleas enteras)
Sistema : El sistema utilizado es el mismo que para el crecimiento de silicio intrínseco: horno Czochralski
Se añaden pequeñas cantidades del dopante
elegido a la carga fundida, que se
incorporarán progresivamente al lingote
durante el crecimiento.
Problema: la segregación. Los dopantes no
se incorporan homogéneamente desde la
fase líquida a la fase sólida
Difusión:
La difusión es uno de los métodos más importantes usados para formar uniones pn
Se utiliza para fabricar diodos, transistores bipolares y circuitos integrados
En combinación con la litografía, permite definir regiones de dopado muy precisas
Sistema
El dopante puede ser:
sólido/líquido/gas.
Dame el gracias <3